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音圈电机有助于提升掩模对准曝光机定位精度和稳定性
音圈电机有助于提升掩模对准曝光机定位精度和稳定性
光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。据同茂小编了解常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
光刻工艺最主要的工件就是掩模和基片。光刻机掩模台系统中音圈电机运动工况分为扫描运动和定位运动，其中扫描运动主要完成硅片曝光处理，该运动对定位精度以及速度稳定性有极高要求，在稳定基础上追求时间的优化。然而，在扫描运动过程中，频繁加减速对系统机械框架产生冲击，影响光刻机定位精度，因此，合理规划扫描运动轨迹至关重要。 音圈电机是一种直接驱动型电机，通常采用无铁芯的机械结构，这样的结构给运动控制带来诸多优点。由于没有铁芯，在电枢电流方向变化时可以认为没有剩磁，音圈电机的输出推力正比于电枢电流，线性度高。因此可以做到推力平稳、光滑，适用于力控制模式。无铁芯机构也使得动子惯量小，相比传统电机，有着较高的伺服带宽。由于音圈电机在应用中不需要传动设备，使得其工作中所受摩擦力仅仅来自于导轨的摩擦。这使得音圈电机系统具有较低的阻尼比。
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