直线电机音圈电机驱动的光刻机双工件台

光刻机主要由工件台、投影物镜和光源三大核心子系统件组成。直线电机光刻机工件台是光刻机的核心子系统之一，其主要功能是承载晶圆按照指定的运动轨迹做高速超精密运动并完成一系列曝光所需动作，包括上下片、对准、晶圆面型测量和曝光等。

光刻机双工件台，即在一台光刻机内有两个承载晶圆的工件台。两个工件台相互独立，但同时运行，一个工件台上的晶圆做曝光时，另一个工件台对晶圆做测量等曝光前的准备工作。当曝光完成之后，两个工件台交换位置和职能，如此循环往复实现光刻机的高产能；

光刻机工件台承载晶圆按照指定的运动轨迹做高速超精密运动并完成一系列曝光所需动作。

2012年朱煜与清华IC装备团队中的7人联合投资成立了华卓精科，目标就是攻克光刻机超精密双工件台技术。

在原有的技术积累和国家专项资金的扶持下，历经短短数年时间华卓精科的双工件台样机，就通过国家科技重大项目的验收，中国也成为继荷兰之后第二个掌握光刻机双工件台技术的国家。华卓精科的双工件台运用磁悬浮电机方案，可以利用磁悬浮电机驱动超精密的乘片台，最高能实现纳米级分辨率的套刻精度。

北京华卓精科目前是国内首家自主研发并实现直线电机光刻机双工件台商业化生产的企业，是国产高端光刻机龙头企业上海微电子的双工件台产品及技术开发的供应商；华卓精科的“核心产品”光刻机双工件台，是芯片制造IC前道光刻机的核心部件之一，其性能在光刻机对晶圆进行光刻时起到决定性影响；

目前面世的纳米级超精密气浮运动台，包含宏动模块与微动模块。微动模块采用自主研发的气浮轴承及音圈电机驱动，宏动模块主要采用U型无铁芯直线电机，可实现平面X、Y同步运动；采用激光干涉仪作为位置反馈，实现纳米级定位精度与重复定位精度。

我们常听到的光刻机工件台在扫描曝光过程中要求纳米级的定位精度,采用了长行程直线电机粗动加音圈电机高精密微动补偿的6自由度复合运动系统能满足要求。同时为减小微动电机的运动范围和加速度,得提高直线电机的轨迹跟踪精度。

U型无铁芯直线电机和音圈电机是在半导体设备高速超精密运动领域不可或缺的精密配件，对其可靠性稳定行一致性要求特别高，成熟的生产工艺和完善的选材标准以及精密的机械加工是对国内直线电机生产厂家基本的要求；